三氟化氮是一种工业特种气体,其主要用作推进剂(火箭)、氟化剂、电子气、等离子干刻及用于掺杂、激光、光导纤维。
    纯净的NF3气体是一种无色无味的气体，当混入一定量的杂质气体后颜色发黄，同时会有发霉或刺激性气味。NF3气体不可燃，但能助燃。当温度超过350℃时，三氟化氮气体会缓慢分解，分解时产生强氧化性氟，因此，在高温下它是一种强氧化剂。
    三氟化氮是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2与F2之间反应能的有效部分（约25％）可以以激光辐射释放出，所HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。
    三氟化氮是一种无色、无味、无毒且不可燃的气体，在半导体加工、太阳能电池制造和液晶显示器制造中得到广泛应用，主要作为刻蚀剂、清洗剂、以及制备WF6的氟化剂。也在火箭发射中作为氧化剂以及推进剂。其在不同应用领域中应用量的比例如下：

资料来源：博思数据整理

    博思数据发布的《2018-2023年中国三氟化氮(NF3)市场分析与投资前景研究报告》，国三氟化氮产业发展大体上分三个阶段:最早是用于国防工业,主要是少量生产自用;其次是上世纪末随着经济的发展,三氟化氮产业化的研究迅猛发展,电子工业用三氟化氮相继问世;第三个阶段是近年在电子工业迅猛发展的推动下,国内三氟化氮的生产线相继投产,其制造水平已与国外发达国家水平相当。